高真空磁控溅射真空及工艺系统
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发布时间：
2025-12-18
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截止时间：*开通会员可解锁* 08:42:39
基本信息：
申购主题：高真空磁控溅射真空及工艺系统
送货时间：合同签订后7天内送达
报价要求：
安装要求：免费上门安装（含材料费）
付款方式：货到验收合格后付款
收货地址：******
备注说明：品牌商-中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
采购明细
| 序号 | 采购内容 | 数量/单位 | 预算单价 | 品牌 | 型号 | 规格参数 | 质保及售后服务 | 附件 |
| 1 | 高真空磁控溅射真空及工艺系统 | 1.0 | 沈阳科仪 | CK-ZJ | 卧式桶型真空室尺寸约Ф450mm x350mm 溅射室极限真空度:≤2X10-5Pa (经烘烤除气后); 从暴露大气状态下,溅射室45分钟可达到6x10-4 Pa; 系统停泵关机12小时后真空度:≤0.1Pa; 磁控安装靶材:其中一个可以溅射铁磁性材料; 基片尺寸和数量:最大可放置1片4英寸圆形样品; 基片加热区间:室温～800°C,转速连续可调.基片台集成偏压功能 三路MFC流量分别为:200SCCM,100SCCM,100SCCM; 复合分子泵及变频控制电源:1台（抽速≥700升/秒）; 旋片真空泵:1台（抽速≥8升/秒）; 合理配置多种电动,气动真空阀门控制分子泵,旋片泵,真空腔体的气压状态 设备安置在钢型材焊接成的台架上,快卸围板表面喷塑处理;机台表面用不锈钢蒙皮装饰;四支脚轮,可固定,可移动; | 按行业标准提供服务 |
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