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后查看完整商机。全国免费咨询热线:400-888-7022多层薄膜工艺腔体
发布时间：*开通会员可解锁* 09:32:36
截止时间：*开通会员可解锁* 09:40:00
基本信息：
申购主题：多层薄膜工艺腔体
送货时间：合同签订后45天内送达
报价要求：
安装要求：免费上门安装（含材料费）
付款方式：货到验收合格后付款,如有其他付款要求，请在竞价时注明
收货地址：浙江省/宁波市/镇海区/****
备注说明：1.需要送货上门，安装调试，不接受快递物流 2.需要全新正品
采购明细
| 序号 | 采购内容 | 数量/单位 | 预算单价 | 品牌 | 型号 | 规格参数 | 质保及售后服务 | 附件 |
| 1 | 多层薄膜工艺腔体 | 1.0 | *开通会员可解锁*.0 | 滨州导向科学仪器有限公司 | MPPJ320、MPPB320、DS320 | [{"key":"1","value":"一.磁控溅射金属腔体：\n1.磁控溅射金属工艺腔体2套：材质：304不锈钢无缝钢管\n2.安装观察窗及挡板\n3.腔体预留磁力进样杆接口，腔体加工精度必须保证后期与其他真空室链接。\n4.形状：圆柱形直径320mm上下安装加热衬底与磁控阴极极限压强：8*10-5Pa\n5.加热温度：室温-400度衬底转速5~10转/min连续可调\n6.手动挡板2套：于遮挡样品与溅射源之间。手动控制。\n7.内屏蔽罩一套，将溅射源与样品包裹在一个空间内，防止更多的材料弥散到真空室内，也更好的保证了溅射材料包裹在样品表面的浓度。单层结构。\n8.磁控阴极：2套；靶材直径75mm，DC/RF工作模式；共聚焦模式最大功率2kw，共聚焦在基片架中心；每个阴极的可调角度为30；磁控阴极采用循环水冷却；\n溅射用靶材：直径75mm；磁性靶材厚度2mm，其它靶材厚度6mm；靶材安装方式为用卡环直接固定在基座上，能够保证靶材与基座之间接触良好，装卸靶材过程简单易行；\n二．磁控溅射半导体腔体\n1.磁控溅射半导体工艺腔体1套：材质：304不锈钢无缝钢管\n2.安装观察窗及挡板\n3.腔体预留磁力进样杆接口，腔体加工精度必须保证后期与其他真空室链接。\n4.形状：圆柱形直径320mm上下安装加热衬底与磁控阴极极限压强：8*10-5Pa\n5.加热温度：室温-400度衬底转速5~10转/min连续可调\n6.手动挡板1套：于遮挡样品与溅射源之间。手动控制。\n7.内屏蔽罩一套，将溅射源与样品包裹在一个空间内，防止更多的材料弥散到真空室内，也更好的保证了溅射材料包裹在样品表面的浓度。单层结构。\n8.磁控阴极：1套；靶材直径75mm，DC/RF工作模式；共聚焦模式最大功率2kw，共聚焦在基片架中心；每个阴极的可调角度为30；磁控阴极采用循环水冷却；\n溅射用靶材：直径75mm；磁性靶材厚度2mm，其它靶材厚度6mm；靶材安装方式为用卡环直接固定在基座上，能够保证靶材与基座之间接触良好，装卸靶材过程简单易行；\n三.热蒸发腔体：\n1.蒸发工艺腔体1套：材质：304不锈钢\n2.形状：圆柱形直径320mm安装观察窗及挡板\n3.上下安装加热衬底与蒸发源\n4.极限压强：8*10-5Pa\n5.加热温度：室温-400度\n6.衬底转速5~10转/min连续可调\n7.手动挡板1套：于遮挡样品与蒸发源之间。手动控制。\n8.内屏蔽罩一套，将蒸发源与样品包裹在一个空间内，防止更多的材料弥散到真空室内，也更好的保证了蒸发材料包裹在样品表面的浓度。单层结构。\n9.加热电源1套\n10蒸发电源1套：\n11.一套配置高温源容量20CC.配坩埚 \n四．设备结构：\n1.整套设备需要将2套磁控溅射金属腔体与1套磁控溅射半导体腔体及1套热蒸发腔体连接在一起实现不接触大气样品转移.\n2.电源要求：2套磁控溅射金属腔体与1套磁控溅射半导体腔体采用500W直流电源","important":true}] | 1.原厂质保1年 | |
| 2 | 多层薄膜工艺腔体 | 1.0 | *开通会员可解锁*.0 | 苏州市新锐博纳米科技有限公司 | XRB-250、XRJ250、ZD250 | [{"key":"1","value":"一.磁控溅射金属腔体：\n1.磁控溅射金属工艺腔体2套：材质：304不锈钢无缝钢管\n2.安装观察窗及挡板\n3.腔体预留磁力进样杆接口，腔体加工精度必须保证后期与其他真空室链接。\n4.形状：圆柱形直径320mm上下安装加热衬底与磁控阴极极限压强：8*10-5Pa\n5.加热温度：室温-400度衬底转速5~10转/min连续可调\n6.手动挡板2套：于遮挡样品与溅射源之间。手动控制。\n7.内屏蔽罩一套，将溅射源与样品包裹在一个空间内，防止更多的材料弥散到真空室内，也更好的保证了溅射材料包裹在样品表面的浓度。单层结构。\n8.磁控阴极：2套；靶材直径75mm，DC/RF工作模式；共聚焦模式最大功率2kw，共聚焦在基片架中心；每个阴极的可调角度为30；磁控阴极采用循环水冷却；\n溅射用靶材：直径75mm；磁性靶材厚度2mm，其它靶材厚度6mm；靶材安装方式为用卡环直接固定在基座上，能够保证靶材与基座之间接触良好，装卸靶材过程简单易行；\n二．磁控溅射半导体腔体\n1.磁控溅射半导体工艺腔体1套：材质：304不锈钢无缝钢管\n2.安装观察窗及挡板\n3.腔体预留磁力进样杆接口，腔体加工精度必须保证后期与其他真空室链接。\n4.形状：圆柱形直径320mm上下安装加热衬底与磁控阴极极限压强：8*10-5Pa\n5.加热温度：室温-400度衬底转速5~10转/min连续可调\n6.手动挡板1套：于遮挡样品与溅射源之间。手动控制。\n7.内屏蔽罩一套，将溅射源与样品包裹在一个空间内，防止更多的材料弥散到真空室内，也更好的保证了溅射材料包裹在样品表面的浓度。单层结构。\n8.磁控阴极：1套；靶材直径75mm，DC/RF工作模式；共聚焦模式最大功率2kw，共聚焦在基片架中心；每个阴极的可调角度为30；磁控阴极采用循环水冷却；\n溅射用靶材：直径75mm；磁性靶材厚度2mm，其它靶材厚度6mm；靶材安装方式为用卡环直接固定在基座上，能够保证靶材与基座之间接触良好，装卸靶材过程简单易行；\n三.热蒸发腔体：\n1.蒸发工艺腔体1套：材质：304不锈钢\n2.形状：圆柱形直径320mm安装观察窗及挡板\n3.上下安装加热衬底与蒸发源\n4.极限压强：8*10-5Pa\n5.加热温度：室温-400度\n6.衬底转速5~10转/min连续可调\n7.手动挡板1套：于遮挡样品与蒸发源之间。手动控制。\n8.内屏蔽罩一套，将蒸发源与样品包裹在一个空间内，防止更多的材料弥散到真空室内，也更好的保证了蒸发材料包裹在样品表面的浓度。单层结构。\n9.加热电源1套\n10蒸发电源1套：\n11.一套配置高温源容量20CC.配坩埚 \n四．设备结构：\n1.整套设备需要将2套磁控溅射金属腔体与1套磁控溅射半导体腔体及1套热蒸发腔体连接在一起实现不接触大气样品转移.\n2.电源要求：2套磁控溅射金属腔体与1套磁控溅射半导体腔体采用500W直流电源","important":true}] | 1.原厂质保1年 | |
| 3 | 多层薄膜工艺腔体 | 1.0 | *开通会员可解锁*.0 | 丹阳市硕果真空技术有限公司 | MPEJ-300、MPEB-300、RZ300 | [{"key":"1","value":"一.磁控溅射金属腔体：\n1.磁控溅射金属工艺腔体2套：材质：304不锈钢无缝钢管\n2.安装观察窗及挡板\n3.腔体预留磁力进样杆接口，腔体加工精度必须保证后期与其他真空室链接。\n4.形状：圆柱形直径320mm上下安装加热衬底与磁控阴极极限压强：8*10-5Pa\n5.加热温度：室温-400度衬底转速5~10转/min连续可调\n6.手动挡板2套：于遮挡样品与溅射源之间。手动控制。\n7.内屏蔽罩一套，将溅射源与样品包裹在一个空间内，防止更多的材料弥散到真空室内，也更好的保证了溅射材料包裹在样品表面的浓度。单层结构。\n8.磁控阴极：2套；靶材直径75mm，DC/RF工作模式；共聚焦模式最大功率2kw，共聚焦在基片架中心；每个阴极的可调角度为30；磁控阴极采用循环水冷却；\n溅射用靶材：直径75mm；磁性靶材厚度2mm，其它靶材厚度6mm；靶材安装方式为用卡环直接固定在基座上，能够保证靶材与基座之间接触良好，装卸靶材过程简单易行；\n二．磁控溅射半导体腔体\n1.磁控溅射半导体工艺腔体1套：材质：304不锈钢无缝钢管\n2.安装观察窗及挡板\n3.腔体预留磁力进样杆接口，腔体加工精度必须保证后期与其他真空室链接。\n4.形状：圆柱形直径320mm上下安装加热衬底与磁控阴极极限压强：8*10-5Pa\n5.加热温度：室温-400度衬底转速5~10转/min连续可调\n6.手动挡板1套：于遮挡样品与溅射源之间。手动控制。\n7.内屏蔽罩一套，将溅射源与样品包裹在一个空间内，防止更多的材料弥散到真空室内，也更好的保证了溅射材料包裹在样品表面的浓度。单层结构。\n8.磁控阴极：1套；靶材直径75mm，DC/RF工作模式；共聚焦模式最大功率2kw，共聚焦在基片架中心；每个阴极的可调角度为30；磁控阴极采用循环水冷却；\n溅射用靶材：直径75mm；磁性靶材厚度2mm，其它靶材厚度6mm；靶材安装方式为用卡环直接固定在基座上，能够保证靶材与基座之间接触良好，装卸靶材过程简单易行；\n三.热蒸发腔体：\n1.蒸发工艺腔体1套：材质：304不锈钢\n2.形状：圆柱形直径320mm安装观察窗及挡板\n3.上下安装加热衬底与蒸发源\n4.极限压强：8*10-5Pa\n5.加热温度：室温-400度\n6.衬底转速5~10转/min连续可调\n7.手动挡板1套：于遮挡样品与蒸发源之间。手动控制。\n8.内屏蔽罩一套，将蒸发源与样品包裹在一个空间内，防止更多的材料弥散到真空室内，也更好的保证了蒸发材料包裹在样品表面的浓度。单层结构。\n9.加热电源1套\n10蒸发电源1套：\n11.一套配置高温源容量20CC.配坩埚 \n四．设备结构：\n1.整套设备需要将2套磁控溅射金属腔体与1套磁控溅射半导体腔体及1套热蒸发腔体连接在一起实现不接触大气样品转移.\n2.电源要求：2套磁控溅射金属腔体与1套磁控溅射半导体腔体采用500W直流电源","important":true}] | 1.原厂质保1年 |
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