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后查看完整商机。全国免费咨询热线:400-888-7022原子层沉积设备
发布时间：*开通会员可解锁* 08:59:10
截止时间：*开通会员可解锁* 15:11:06
基本信息：
申购主题：原子层沉积设备
送货时间：合同签订后7天内送达
报价要求：
安装要求：免费上门安装（含材料费）
付款方式：货到验收合格后付款
收货地址：******
备注说明：设备功能：原子层沉积设备主要用于以交替脉冲气相反应的方式生长纳米薄膜 购置目的和用途：用于制造高性能、高稳定性钙钛矿太阳能电池 设备用途：制备电子传输层SnO2和封装钝化层Al2O3。
采购明细
| 序号 | 采购内容 | 数量/单位 | 预算单价 | 品牌 | 型号 | 规格参数 | 质保及售后服务 | 附件 |
| 1 | 原子层沉积设备 | 1.0 | 北加州 | TALD-200 | 1.外热式反应腔体1套：SnO2反应温度不超过最高150℃； 2.样品尺寸：最大直径8英寸； 3.前驱体源系统3路：2金属1水 5.真空系统1套：机械泵+热阱+真空计 5.沉积自动控制系统1套 | 1、到货后上门安装调试 2、安装调试期间完成培训 3、验收合格后质保1年 4、接到用户售后反馈后2小时内响应，48小时内可上门 |
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