光刻胶是微电子制造中光刻工艺的关键材料。光刻胶的生产对纯度、稳定性及热敏成分保护性的极致要求（如杂质的含量，核心成分需避免热降解），决定了其使用的分子蒸馏设备必须满足一系列严苛标准。这些要求既涉及设备的分离性能，也涵盖材质、精度控制、洁净度等细节，具体如下：

1、超高分离精度，满足 “痕量杂质去除” 需求

光刻胶原料（如树脂、感光剂）和溶剂中，杂质的含量需脱除至ppm级以下 ，否则会直接导致光刻缺陷。因此，分子蒸馏设备需具备：

高效的分子级分离能力

：通过优化蒸发器结构（如采用刮膜式或离心式蒸发面），确保物料在蒸发面形成均匀薄膜，最大化不同分子的自由程差异。例如，设备需通过精准控制蒸发温度和高真空度，实现两者的高效分离。

多级分离设计

：针对复杂体系（如含多种杂质的感光剂粗品），需采用多级串联蒸馏，逐级去除低沸点、中沸点和高沸点杂质。例如，第一级去除水分和轻组分，第二级分离同分异构体，第三级脱除高沸点残渣，最终使目标成分达到更高的纯度。

2、极致的低温与真空控制，保护热敏性成分

光刻胶的核心成分（粘合剂、光敏剂等）在超温的情况下易发生分解或交联。分子蒸馏设备需通过以下设计避免热损伤：

高低温操作窗口 超高真空环境

3、严苛的材质与洁净度，杜绝 “二次污染”

惰性材质选用

：与物料接触的部件（蒸发面、冷凝面、进料管）西安纽赛特分子蒸馏采用 316L 不锈钢（镜面抛光） 或哈氏合金材质，避免金属离子逸出。

无死角结构设计

：设备内部需避免直角、凹陷等易残留物料的结构，所有接口采用圆弧过渡；密封件需使用耐溶剂的聚四氟乙烯垫圈，杜绝橡胶溶出物污染。

在线自清洁加热面

：旋转刮板在加热表面滑动，对液膜不断的搅动与更新，防止物料在加热面的鼓泡、刮壁结垢等，能成功的应用于常规蒸馏容易鼓泡、在加热面结垢物料的浓缩与分离。

4、适配性与安全性，兼容多样化体系

光刻胶生产涉及多种溶剂、单体、树脂、添加剂及感光化合物，设备需具备广泛的适配性：

物料形态兼容性

：对于高黏度树脂（黏度 > 1000cP），需配备预热进料系统和高剪切刮板，确保物料均匀铺展；对于含易氧化成分的感光剂，需在整个出料的过程中通入惰性气体，隔绝氧气。

防爆与溶剂回收

：设备需符合 ATEX 或 Class I Div 1 防爆标准（针对有机溶剂蒸气），并集成冷凝回收系统，高效回收未参与分离的溶剂，既降低成本又减少废气排放。 总结

光刻胶生产用分子蒸馏设备的核心要求可概括为：“高精度分离、极致低温保护、低污染控制、高稳定性输出”。这些要求直接服务于光刻胶对纯度、热敏性和一致性的严苛标准，尤其在先进制程（如 EUV 光刻胶）中，设备性能甚至成为制约光刻胶质量的关键因素之一。

关于西安纽赛特

公司简介

西安纽赛特化工设备科技有限公司成立于 2006 年，坐落于陕西西安三元精密设备产业园，致力于新型合成及提纯分离设备的研发与生产。经过 近20年的努力，现已具有分子蒸馏系统、升降膜蒸发装置、简精馏装置、成套合成装置、结晶过滤装置等系列产品。公司核心技术团队由化学合成、化学工程与工艺、化工机械等专业工程师组成，化工合成及生物工程技术与机械制造技术的紧密协作使纽赛特生产的化工及生物工程装备具有实用性、匹配性、先进性；公司专业工程师在指导使用设备时能够结合产品工艺快速确定设备参数的设置，并根据检测结果做优化调整，使用户少走弯路；针对新型科技企业可以根据工艺要求设计新型生产装备，是新兴科技企业技术成果工业转化的战略合作伙伴。

我们的理念

我们的理专业的技术团队, 专注于分子蒸馏技术的应用研发, 为用产提供卓越的产品及服务。倾心研究分子蒸榴技术方案, 售前售后与用户保持深度沟通、在服务中完善产品, 通过产品完善工艺应用。

短程分子蒸馏设备是西安纽赛特的主打产品，从小试到工业级生产设备都由我司自主制造，可对热敏性或常规蒸馏无法处理的产品进行分离提纯；也可对产品中的低分子杂质脱除至ppm级。

西安纽赛特拥有实验室，对分子蒸馏设备处理产品的定性及工艺，做可行性实验！