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后查看完整商机。全国免费咨询热线:400-888-7022| 多靶磁控溅射镀膜机 | |
| 项目所在采购意向： | zycgr24*开通会员可解锁*年2月政府采购意向 |
| 采购单位： | zycgr24041501 |
| 采购项目名称： | 多靶磁控溅射镀膜机 |
| 预算金额： | 298.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | A02052402真空应用设备 |
| 采购需求概况 ： | 本项目以引领钙钛矿光伏材料与器件发展为目标，构建高效稳定器件的核心之一在于各功能层材料的高质量制备与精密界面调控。因此购置的多靶磁控溅射镀膜机需满足如下技术指标：1.配装三个靶位，其中双射频靶、一中频靶。2.射频靶能用于溅射NiO, IZO, ITO等材料。3.极限真空度<5*10-5Pa,工作背景真空<5*10-4Pa。4.抽气系统采用直连泵+分子泵组5.溅射成膜厚度均匀性应<3%；IZO，ITO方块电阻均匀性<5%。 |
| 预计采购时间： | 2026-02 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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